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半导体阻尼布
更新时间:2021-09-05 23:09 企业会员
东莞市创力研磨科技有限公
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半导体专用阻尼布

产品详情:

外   观

黑色

形   状

圆形

厚   度

T1.3、T1.0、T0.8、T0.5mm

硬   度

65-69(邵氏硬度)

压   槽

13*13、2*2、5*5、10*10、25*25mm

刻   槽

5*5、10*10、13*13、18*18、20*20mm

槽间距

2mm

背   胶

①.背PT胶

②.Φ1000以上均为进口3M背胶

③.PET基板+PT胶(仅限于T0.5阻尼布)

常用规格

Φ280mm、Φ380mm、Φ460mm、Φ610mm、Φ640mm、

Φ910mmΦ980mm、Φ1200mm、Φ1250mm、Φ1340mm

*可完美替代日本FUJIBO,日本丸石等阻尼布*

原材料:日本进口;

应用领域:

1、蓝宝石加工:蓝宝石衬底、LED芯片、窗口片、表镜片、TEL指纹识别片、TEL摄像头镜片等蓝宝石材料抛光(精抛);

2、金属加工:不锈钢、铝件、铜件、模具钢、TELLogo、TEL中框、TEL卡槽、TEL按键、TEL背板、医疗器械件、模具等超硬合金金属材料抛光(精抛);

3、陶瓷加工:氮化铝基板、TEL陶瓷盖板、陶瓷指纹件、手表陶瓷结构件、等陶瓷材料抛光(精抛);

4、半导体加工:硅片、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓等半导体材料抛光(精抛);

5、红外晶体加工:硒化锌、锗、硅、硫化锌、氟化钙、氟化镁、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外等红外材料抛光(精抛);

6、光学玻璃加工:蓝玻璃滤光片、反射镜片、TEL玻璃、石英晶片、水晶晶片、钟表镜片、精密光学仪器、军用电子透光仪等抛光(扫光)。

*抛光后可至完美的镜面效果*

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